氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮

问题描述:

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜,可以用NH 3 和SiH 4 (硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3 SiH 4 +4NH 3 Si 3 N 4 +12H 2
(1)以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下:
反应原理:4NH 4 Cl+Mg 2 Si 4NH 3 ↑+SiH 4 ↑+2MgCl 2 (△H < 0)

①NH 4 Cl的化学键类型有____________,SiH 4 电子式为_______________。
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是________________________。
③氨气也是重要的工业原料,写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式_______,实验室可利用如图所示装置完成该反应。 

在实验过程中,除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外,还可观察到有白烟生成,白烟的主要成分是_____________。
(2)三硅酸镁(Mg 2 Si 3 O 8 ∙nH 2 O)难溶于水,在医药上可做抗酸剂。它除了可以中和胃液中多余酸之外,生成的H 2 SiO 3 还可覆盖在有溃疡的胃表面,保护其不再受刺激。三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为_______________________________。将0.184 g三硅酸镁加到50 mL 0.1 mol/L盐酸中,充分反应后,滤去沉淀,以甲基橙为指示剂,用0.1 mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸,消耗NaOH溶液30 mL,则Mg 2 Si 3 O 8 ∙nH 2 O的n值为_________。(注:Mg 2 Si 3 O 8 的摩尔质量为260 g/mol)


最佳答案:

(14分)(1)①极性键(或共价键)、离子键        ②吸收热量,保证反应在常温下进行(答“制冷”或“降温”均可)③4NH 3 +5O 2 4NO+6H 2 O   NH 4 NO 3 (或:硝酸铵)(2)Mg 2 Si 3 O 8 ∙nH 2 O...

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